光化學(xué)反應(yīng)儀CY-GHX-A光催化降解裝置的詳細(xì)資料：

光化學(xué)反應(yīng)儀CY-GHX-A光催化降解裝置

主要特征：

1.采用智能微電腦控制，可觀察電流和電壓實(shí)時(shí)變化。             

2. 具有分步定時(shí)功能，操作簡便。

3.進(jìn)口光源控制器，內(nèi)置光源轉(zhuǎn)換器，功率連續(xù)可調(diào)，穩(wěn)定性高    。

4. 高溫度保護(hù)系統(tǒng)，自動(dòng)斷電功能。

5.反應(yīng)暗箱內(nèi)壁使用防輻射材料，且?guī)в杏^察窗。

6.采用內(nèi)照式光源，受光充分，燈源采用耐高壓防震材質(zhì)，經(jīng)久耐用。

7.配有8（6/12可選）位磁力攪拌裝置，使樣品充分混勻受光。

8.雙層耐高低溫石英冷阱，可通入冷卻水循環(huán)維持反應(yīng)溫度。

9.機(jī)箱外部結(jié)構(gòu)設(shè)有循環(huán)水進(jìn)出口，內(nèi)部設(shè)有2個(gè)插座，供燈源和攪拌反應(yīng)器用。

光化學(xué)反應(yīng)儀或是氙燈光源應(yīng)如何選購呢?

1氙燈光源平行光源一般是燈泡通過光學(xué)器件處理，而在需要高能量的場合則采用橢球反映射鏡。

2光化學(xué)反應(yīng)儀/氙燈光源在光化學(xué)中，可由平行光源與反映樣品部分構(gòu)成外照式輻照系(光以平行光束形式從反映系統(tǒng)由外而內(nèi)的進(jìn)行輻照)。

3光源至于那些燈源可構(gòu)成匯聚點(diǎn)光源，中心發(fā)散光源及平行光源則需具體情況具體討論。

4光源匯聚點(diǎn)光源通常用于單色儀分光，光纖導(dǎo)入或使用聚焦點(diǎn)的能量集中效應(yīng)(如熱效應(yīng))。

5光化學(xué)反應(yīng)儀光源散光源通常是對(duì)燈源未做任何處理(光以球面波形式向整個(gè)空間發(fā)散)，在光化學(xué)中，通常冷阱、反應(yīng)器配合，光均勻的向反映物質(zhì)輻射，構(gòu)成所謂的內(nèi)照式輻照系(整個(gè)體系中，光由內(nèi)而外輻照)。

光化學(xué)反應(yīng)儀CY-GHX-A光催化降解裝置

光催化凈化技術(shù)主要是利用光催化劑二氧化欽(T'02)吸收外界輻射的光能，使其直接轉(zhuǎn)變?yōu)榛瘜W(xué)能。當(dāng)能量大于Ti02禁帶寬度的光照射半導(dǎo)體時(shí)，光激發(fā)電子躍遷到導(dǎo)帶，形成導(dǎo)帶電子(e-)，同時(shí)在價(jià)帶留下空穴階(h+)。由于半導(dǎo)體能帶的不連續(xù)性，電子和空穴的壽命較長，它們能夠在電場作用下或通過擴(kuò)散的方式運(yùn)動(dòng)，與吸附在半導(dǎo)體催化劑粒子表面上的物質(zhì)發(fā)生氧化還原反應(yīng)，或者被表面晶格缺陷俘獲?？昭ê碗娮釉诖呋瘎┝Ｗ觾?nèi)部或表面也能直接復(fù)合，空穴能夠同吸附在催化劑粒子表面的月口一或HZO發(fā)生作用生成經(jīng)基自由基HO " , HO.是一種活性很高的粒子，能夠無選擇的氧化多種有機(jī)物并使之礦化。

由于光催化還屬于一種新興的技術(shù)，有很多因素還需要額外考慮，諸如納米光催化劑的制備技術(shù)、納米光催化劑的高活性和高壽命技術(shù)、納米光催化劑的固載化技術(shù)和納米光催化劑反應(yīng)的設(shè)計(jì)技術(shù)，這些因素的實(shí)現(xiàn)勢必會(huì)使得凈化器價(jià)格攀升，從而影響推廣。然而該技術(shù)*大的不足在于，從利用太陽光效率的角度看，半導(dǎo)體的光吸收波長范圍狹窄，主要在紫外區(qū)，利用太陽光的比例低;光生載流子的復(fù)合率很高，導(dǎo)致量子效率較低。