控溫光催化反應(yīng)儀CY-GHX-BC大容量試管
更新時(shí)間:2021-06-21型 號(hào): | |
報(bào) 價(jià): |
控溫光催化反應(yīng)儀CY-GHX-BC大容量試管,光化學(xué)反應(yīng)儀, 又稱為光化學(xué)反應(yīng)釜,多功能光化學(xué)反應(yīng)器.主要用于研究氣相或液相介質(zhì)、固定或流動(dòng)體系、紫外光或模擬可見光照、以及反應(yīng)容器是否負(fù)載TiO2光催化劑等條件下的光化學(xué)反應(yīng)。具有提供分析反應(yīng)產(chǎn)物和自由基的樣品,測定反應(yīng)動(dòng)力學(xué)常數(shù),測定量子產(chǎn)率等功能,廣泛應(yīng)用化學(xué)合成、環(huán)境保護(hù)以及生命科學(xué)等研究領(lǐng)域。
控溫光催化反應(yīng)儀CY-GHX-BC大容量試管的詳細(xì)資料:
控溫光催化反應(yīng)儀CY-GHX-BC大容量試管
技術(shù)參數(shù):
型號(hào):CY-GHX-BC大容量控溫光化學(xué)反應(yīng)儀
(一)主體部分
1.光源功率可連續(xù)調(diào)節(jié)大小。
2.集成式光源控制器,可供汞燈、氙燈、金鹵燈等多種光源使用。
3.汞燈功率調(diào)節(jié)范圍:0~1000W可連續(xù)調(diào)節(jié)。
4.氙燈功率調(diào)節(jié)范圍:0~1000W可連續(xù)調(diào)節(jié)。
5.金鹵燈功率調(diào)節(jié)范圍:0~500W可連續(xù)調(diào)節(jié)。
(二)d容量反應(yīng)部分
1.玻璃反應(yīng)器皿可以分別選用250ml、500ml、1000ml等(或定做)。
2.大功率強(qiáng)力磁力攪拌器使樣品充分混勻受光。
(三)控溫裝置
1.冷卻水循環(huán)裝置制冷量:>1000W
2.控溫范圍:-5°C到100°C
3.冷卻水循環(huán)裝置設(shè)有腳輪和底部排液閥。
多試管光化學(xué)反應(yīng)儀產(chǎn)品配置:
配置單 | 數(shù) 量 |
控制主機(jī) | 1臺(tái) |
反應(yīng)暗箱 | 1臺(tái) |
光源控制器 | 1臺(tái) |
雙層石英冷阱 | 1個(gè) |
汞燈(1000W) | 1支 |
氙燈(1000W) | 1支 |
金鹵燈(500W) | 1支 |
攪拌裝置 | 1套 |
樣品反應(yīng)瓶 | 1只(250ml,500ml,1000ml可選) |
反應(yīng)罐 | 8只(30ml,50ml共8只) |
控溫光催化反應(yīng)儀CY-GHX-BC大容量試管
光催化反應(yīng)可以分為兩類"降低能壘"(down hil1)和"升高能壘"(up hil1)反應(yīng)。光催化氧化降解有機(jī)物屬于降低能壘反應(yīng),此類反應(yīng)的△G<0,反應(yīng)過程不可逆,這類反應(yīng)中在光催化劑的作用下引發(fā)生成o2-、ho2 g="">0(△G=237 kJ/mo1),此類反應(yīng)將光能轉(zhuǎn)化為化學(xué)能。
基本信息
概括
隨著能源需求的持續(xù)增長,而儲(chǔ)備能源日益減少的情況下,開發(fā)新能源的研究已經(jīng)迫在 光解水制氫系統(tǒng)實(shí)物對(duì)比眉睫。氫能,它作為二次能源,具有清潔、高效、安全、可貯存、可運(yùn)輸?shù)戎T多優(yōu)點(diǎn),被人們認(rèn)為是一種的綠色能源。自1972年日本東京大學(xué)Fujishima A和Honda K兩位教授*報(bào)導(dǎo)TiO2單晶電極光催化分解水從而產(chǎn)生氫氣這一現(xiàn)象后,揭示了利用太陽光直接分解水制氫的可能性,開辟了利用太陽能光解水制氫的研究道路。隨著電極電解水向半導(dǎo)體光催化分解水制氫的多相光催化(heterogeneous photocatalysis)的演變和TiO2以外的光催化劑的相繼發(fā)現(xiàn),興起了以光催化方法分解水制氫(簡稱光解水)的研究,并在光催化劑的合成、改性等方面取得較大進(jìn)展。光解水制氫系統(tǒng)作為實(shí)驗(yàn)研究的必要儀器,也起到了舉足輕重的作用,但在中國市場這個(gè)山寨和低劣仿制產(chǎn)品肆虐的大環(huán)境中,選擇實(shí)驗(yàn)儀器還是需要慎之又慎的,否則會(huì)被無良廠家或經(jīng)銷商欺騙,即浪費(fèi)了有限的科研經(jīng)費(fèi),又耽誤了寶貴的實(shí)驗(yàn)時(shí)間。
優(yōu)勢特點(diǎn)
微量氣體在線收集及檢測系統(tǒng)即光解水制氫實(shí)驗(yàn)系統(tǒng),集成了光源,反應(yīng)器及玻璃管道體系,取樣系統(tǒng),氣體循環(huán),真空環(huán)境等多種設(shè)計(jì)技術(shù)和制造技術(shù),結(jié)合氣相色譜儀器,可以完成高能量密度光照、反應(yīng)、氣體在線連續(xù)取樣、分析的科研工作,為我國的能源、材料等戰(zhàn)略性研究的不斷發(fā)展做出了重要貢獻(xiàn)。
光解水系統(tǒng)也稱光解水制氫系統(tǒng)或光解水產(chǎn)氫系統(tǒng),是利用真空系統(tǒng),在常壓下進(jìn)行光照實(shí)驗(yàn),產(chǎn)生的氫氣利用氣體攪拌器在系統(tǒng)中攪拌均勻,可以在線取樣進(jìn)入氣相色譜進(jìn)行檢測, 保證了樣品取出到檢測過程的真空性和*性,減少測試數(shù)據(jù)的誤差,保證微量氫氣在線監(jiān)測的準(zhǔn)確性。
光解水制氫系統(tǒng)具備以下技術(shù)特點(diǎn):
占地面積小:系統(tǒng)總大小僅為680*450*980mm,放在實(shí)驗(yàn)臺(tái)上或?qū)嶒?yàn)室地上都可以,
為國內(nèi)實(shí)驗(yàn)室節(jié)省了很多寶貴的實(shí)驗(yàn)空間。
在線檢測: 穩(wěn)定的氣體在線收集檢測系統(tǒng),真空環(huán)境定量取樣,使檢測數(shù)據(jù)更加準(zhǔn)確。
真空進(jìn)樣:進(jìn)樣系統(tǒng)與真空反應(yīng)系統(tǒng)無縫連接,不但保證了進(jìn)樣時(shí)的氣密性,還可以手
動(dòng)進(jìn)樣制作氫氣標(biāo)樣的標(biāo)準(zhǔn)曲線。
操作便捷:一站式服務(wù),即裝即用,進(jìn)樣、取樣、檢測僅需搬動(dòng)一個(gè)真空閥門,操作非
常簡單,zui大程度簡化實(shí)驗(yàn)過程。
系統(tǒng)兼容性強(qiáng):本系統(tǒng)不但可以進(jìn)行光催化水制氫實(shí)驗(yàn),還可以兼容光催化電解水制氫、熱催化水制氫及常壓下二氧化碳制甲醇等適合真空系統(tǒng)在線檢測的催化實(shí)驗(yàn)。 高氣密性閥體:AULTT系列真空系統(tǒng)(含光解水制氫系統(tǒng)),擁有*的航天技術(shù)"金屬與玻璃低溫焊接技術(shù)",可保證系統(tǒng)氣密性達(dá)200小時(shí)以上。
檢測精度高:光解水制氫系統(tǒng),測量精度達(dá)1PPM,適合極微量到常量氣體收集及檢測的各種實(shí)驗(yàn)需求。
光化學(xué)反應(yīng)儀主要用于研究氣相或液相介質(zhì)、固定或流動(dòng)體系、紫外光或模擬可見光照、以及反應(yīng)容器是否負(fù)載TiO2光催化劑等條件下的光化學(xué)反應(yīng)。具有提供分析反應(yīng)產(chǎn)物和自由基的樣品,測定反應(yīng)動(dòng)力學(xué)常數(shù),測定量子產(chǎn)率等功能,廣泛應(yīng)用化學(xué)合成、環(huán)境保護(hù)以及生命科學(xué)等研究領(lǐng)域
光化學(xué)、干膜、曝光及顯影制程術(shù)語手冊(cè)1、Absorption 領(lǐng)受,吸入
指被領(lǐng)受物會(huì)進(jìn)入主體的內(nèi)部,是一種化學(xué)式的吸入步履。如光化反映中的光能領(lǐng)受,或板材與綠漆對(duì)溶劑的吸入等。還有一近似詞 Adsorption 則是指吸附而言,只附著在主體的概略,是一種物理式的親和吸附。
2、Actinic Light(or Intensity,or Radiation) 有用光
指用以完成光化反映各類光線中,其zui有用波長規(guī)模的光而言。例如在360~420 nm 波長規(guī)模的光,對(duì)偶氮棕片、淺顯吵嘴底片及重鉻酸鹽感光膜等,其等反映均zui快zui*且功用zui大,謂之有用光。
3、Acutance 解像尖銳度
是指各類由感光編制所取得的圖像,其線條邊緣的尖銳景象抽象 (Sharpness),此與解像度 Resolution 不合。后者是指在必定寬度距離中,可以了了的顯像(Develope)解出若干良多多少組“線對(duì)”而言(Line Pair,系指一條線路及一個(gè)空間的組合),普簡易稱只說解出機(jī)條“線”而已。
4、Adhesion Promotor 附出力增進(jìn)劑
多指干膜中所添加的某些化學(xué)品,能促使其與銅面發(fā)生“化學(xué)鍵”,而增進(jìn)其與底材間之附出力者皆謂之。
5、Binder 粘結(jié)劑
各類積層板中的接著樹脂部份,或干膜之阻劑中,所添加用以“成形”而不致太“散”的接著及組成劑類。
6、Blur Edge(Circle)恍惚邊帶,恍惚邊圈
多層板各內(nèi)層孔環(huán)與孔位之間在做瞄準(zhǔn)度搜檢時(shí),可把持 X光透shi法為之。由于X光之光源與其機(jī)組均非平行光之機(jī)關(guān),故所得圓墊(Pad)之減少回憶,其邊緣之解像其實(shí)不明銳了了,稱為 Blur Edge。
7、Break Point 出像點(diǎn),顯像點(diǎn)
指制程中已有干膜貼附的“在制板”,于自動(dòng)保送線顯像室上下噴液中遏制顯像時(shí),抵達(dá)其完成沖洗而閃現(xiàn)出了了圖形的“旅程點(diǎn)”,謂之“Break Point”。所經(jīng)歷過的沖洗旅程,以占顯像室長度的 50~75% 之間為好,如斯可以使剩下旅途中的清水沖洗,更能增強(qiáng)斷根殘膜的成果。
8、Carbon Arc Lamp 碳弧燈
晚期電路板底片的翻制或版膜的分娩時(shí),為其曝光所用的光源之一,是在中心迫近的碳精棒之間,施加高電壓而發(fā)生弧光的拆卸。
9、Clean Room 無塵室、潔凈室
是一個(gè)遭到賣力經(jīng)管及精采把握的房間,其溫度、濕度、壓力都可加以調(diào)劑,且氣氛中的塵埃及臭氣已予以消弭,為半導(dǎo)體及細(xì)線電路板分娩制造必需的景象抽象。淺顯“潔凈度”的表達(dá),是以每“立方呎”的氣氛中,含有大于0.5μm以上的塵粒數(shù)目,做為分級(jí)的尺度,又為儉仆成本起見,常只在使命臺(tái)面上設(shè)置部門無塵的景象抽象,以嘗試必需的使命,稱 Clean Benches。
10、Collimated Light 平行光
以感光法遏制回憶轉(zhuǎn)移時(shí),為添加底片與板面間,在圖案上的變形走樣起見,應(yīng)采納平行光遏制曝光制程。這類平行光是經(jīng)由屢次反射折射,而取得低熱量且近似平行的光源,稱為Collimated Light,為細(xì)線路建筑必需的裝備。由于垂直于板面的平行光,對(duì)板面或景象抽象中的少許塵埃都很是緩慢,常會(huì)忠誠的暗示在所曬出的回憶上,構(gòu)成許多額定的漏洞錯(cuò)誤,反不如淺顯散射或漫射光源可以也許自彼此補(bǔ)而消彌,故采納平行光時(shí),必需還要無塵室的合營才行。此時(shí)底片與待曝光的板面之間,已無需再做抽真空的密接(Close Contact),而可間接使用較嚴(yán)重的 Soft Contact或Off Contact了。
11、Conformity吻合性,fu貼性
完成零件壞配的板子, 為使整片板子外形遭到賣力的呵護(hù)起見,再以絕緣性的涂料予以封護(hù)涂裝,使有更好的信賴性。淺顯軍yong或較高條理的拆卸板,才會(huì)用到這類外形貼護(hù)層。
12、Declination Angle 斜射角
由光源所間接射下的光線,或經(jīng)各類折射反射過程后,再行射下的光線中,凡閃現(xiàn)不垂直射在受光面上,而與“垂直法線”呈某一斜角者(即圖中之 a角)該斜角即稱 Declination Angle。當(dāng)此斜光打在干膜阻劑邊緣所組成的“小孔相機(jī)”并經(jīng) Mylar 折光下,會(huì)泛起另外一“平行光”之半角(Collimation HalfAngle,CHA)。但凡“細(xì)線路”曝光所邃密精彩的“高平行度”的曝光機(jī)時(shí),其所呈的“斜射角”應(yīng)小于 1.5 度,其“平行半角”也須小于 1.5 度。
13、Definition 邊緣傳神度
在以感光法或印刷法遏制圖形或回憶轉(zhuǎn)移時(shí),所取得的下一代圖案,其線路或各導(dǎo)體的邊緣,是不是能泛起齊直而又忠于原底片之外形,稱為“邊緣齊直性”或傳神度“Definition”。
14、Densitomer 透光度計(jì)
是一種對(duì)吵嘴底片之透光度(Dmin)或遮光度(Dmax)遏制丈量之儀器,以搜檢該底片之劣化水平若何。其經(jīng)常使用的品牌如 X-Rite 369 等于。
15、Developer 顯像液,顯影液,顯像機(jī)
用以沖洗掉未感光聚合的膜層,而留下已感光聚合的阻劑層圖案,其所用的化學(xué)品溶液稱為顯像液,如干膜制程所用的碳酸鈉(1%)溶液等于。
16、Developing 顯像,顯影
是指感光回憶轉(zhuǎn)移過程中,由母片翻制子片時(shí)稱為顯影。但對(duì)下一代像片或干膜圖案的閃現(xiàn)作業(yè),則應(yīng)稱為“顯像”。既然是由底片上的“影”轉(zhuǎn)移成為板面的“像”,雖然就該當(dāng)稱為“顯像”,而不宜再續(xù)稱底片階段的“顯影”,這是淺而易見的事理??墒菢I(yè)界積非成是習(xí)用已久,一時(shí)興不茍且更正。日文則稱此為“現(xiàn)像”。
17、Diazo Film 偶氮棕片
是一種有棕色阻光膜的底片,為干膜回憶轉(zhuǎn)移時(shí),在紫外光中公用的曝光用具(Phototool)。這類偶氮片即使在棕色的遮光區(qū),也能在“可見光”中透shi現(xiàn)實(shí)片下的板面景象抽象,比吵嘴底片要便當(dāng)?shù)亩唷?/span>
18、Dry Film 干膜
是一種做為電路板回憶轉(zhuǎn)移用的干性 gan光薄膜阻劑,還有 PE 及 PET 兩層皮膜將之夾心呵護(hù)?,F(xiàn)場施工時(shí)可將 PE 的隔離層撕掉,讓中心的感光阻劑膜壓貼在板子的銅面上,在經(jīng)由底片感光后即可再撕掉 PET 的表護(hù)膜,遏制沖洗顯像而組成線路圖形的部門阻劑,進(jìn)而可再嘗試蝕刻(內(nèi)層)或電鍍(外層)制程,zui初在蝕銅及剝膜后,即取得有裸銅線路的板面。